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1.裝置概述
長期以來，我公司根據(jù)用戶需求，對(duì)各種含N2、H2、CO2、CO、CH4、O2、H2S、C2H6、C3H8、H2O(g)及其它有機(jī)雜質(zhì)等廢氣、尾氣、中間氣進(jìn)行凈化處理和空氣制氮制氧處理，具體包括采用PSA、TSA、膜分離或其它特定工藝達(dá)標(biāo)進(jìn)行脫硫（干法或濕法）、脫二氧化碳（干法或濕法）、脫氧、脫氮、脫一氧化碳、脫水干燥、脫重?zé)N等，本類裝置主要廣泛應(yīng)用于如下氣體凈化分離：
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產(chǎn)品編號(hào) |
原料氣體 |
原料氣主要成份 |
主產(chǎn)品 |
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ZWGH01 |
各種沼氣 |
CH4/C2H6/CO2/H2S/N2/O2等 |
CH4 |
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ZWGH02 |
油田伴生氣 |
CH4/C2~C6/CO2/H2S/N2/O2等 |
CH4 |
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ZWGH03 |
氯堿尾氣 |
H2/H2O(g)/CO/CO2/Cl2/N2/O2/CH4等 |
H2 |
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ZWGH04 |
煉廠富氫氣 |
H2/C2~C7(包括苯類)/CO/CO2/H2S等 |
H2 |
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ZWGH05 |
合成釋放氣 |
H2/CH4/CO2/N2/Ar等 |
H2 |
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ZWGH06 |
變換氣 |
H2/H2O(g)/CO/CO2/Ar/N2/CH4等 |
H2 |
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ZWGH07 |
苯乙烯尾氣 |
H2/C2~C4/CO/CO2/N2/O2/CH4/苯/苯乙烯甲苯/乙苯等 |
H2 |
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ZWGH08 |
多晶硅尾氣 |
H2/HCl/C2H3Cl/SiHCl3等 |
H2 |
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ZWGH09 |
各種加氫尾氣 |
H2/CO/CO2/CH4/其它 |
H2 |
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ZWGH10 |
焦?fàn)t煤氣 |
H2/CmHn/CH4/CO/CO2/N2/O2/CH4/苯類/萘/焦油/H2S/HCN/NH3/有機(jī)硫等 |
H2 |
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ZWGH11 |
其它氣體 |
H2/其它 |
H2、其它 |
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ZWGH12 |
空氣 |
N2/O2/其它 |
N2、O2 |
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備 注 |
裝置所涉及工藝包括但不限于使用PSA/TSA/膜分等特定工藝進(jìn)行脫硫（干法或濕法）、脫二氧化碳（干法或濕法）、脫氧、脫氮、脫一氧化碳、脫水干燥、脫重?zé)N等等或空分制氮、制氧。 |
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2.技術(shù)指標(biāo)
根據(jù)用戶需要定制。
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